在一个fet中, 流到源电流流动通过一个导电通道, 连接源区域到排水区域. 在门和源终端之间使用电压时产生的电场, 电导率不同; 因此, 目前排水和来源之间的流动由门和源之间的电压控制. 由于门源电压(vgs)增加, 排水源电流(id)在低于阈值的情况下增加了指数, 然后以大约二次级速率(igs ∝ (vgs-vt) 2) (在这种情况下, 瓦图是排水电流开始的阈值电压)在阈值范围内的空间收费有限的区域. 一个二次的行为没有被观察到在 现代 设备 中, 例如, 在65 nm技术节点上.
没有观察到的二次行为在哪里?
在 现代 设备 中