Fotolitografi
Pada umumnya, permukaan "wafer" yang akan dilapisi "photoresist" mudah teroksidasi dan akan membentuk ikatan hidrogen yang panjang yang di dapat dari air di udara. Dengan demikian, jika "photoresist" diletakkan di atas "wafer" yang berputar, tidak akan menempel dengan permukaan "wafer" tetapi menempel dengan permukaan air dan menghasilkan daya tempel ke "wafer" yang rendah. Untuk menghasilkan ikatan yang kuat dengan wafer, maka dibutuhkan promotor seperti "Hexamethyldisilazane" (HMDS).